03151, м. Київ, вул. Ушинського, 15
03151, м. Київ, вул. Ушинського, 15
Плануєте вступ у 2026 році до магістратури або аспірантури?
Зробіть перший крок - пройдіть реєстрацію на вступні випробування.
Основний період реєстрації:
з 23 квітня до 14 травня.
Додатковий з 26 по 28 травня
Тестування
основна сесія 26 червня – 14 липня;
додаткова - 03–21 серпня.
Для вступу до магістратури необхідно скласти:
✔ ЄВІ - обов’язковий для всіх вступників.
Складається з:
• ТЗНК (тест загальної навчальної компетентності)
• Іноземної мови (англійської, німецької, французької, іспанської на вибір)
✔ ЄФВВ:
Важливо!
Для вступу на другу вищу освіту на магістерську програму складати ЄВІ та ЄФВВ не потрібно.
Щоб пройти реєстрацію:
напишіть нашому асистенту зі вступу який пройде із вами кожен крок ☛ https://t.me/vstup_NAM
або самостійно підготуйте документи та надсилайте на пошту за ☛ інструкцією
Не відкладайте реєстрацію на останній день - підготуйтеся до вступу вже сьогодні!
ВНЗ «Національна академія управління» (Україна) та Academy HUSPOL (Чеська Республіка) оголосили про початок стратегічного партнерства, підписавши Меморандум про співробітництво.
Ця угода спрямована на інтеграцію української та європейської освіти та науки через спільні проєкти, розширює інтернаціональне партнерство та відкриває нові можливості для здобувачів, науково-педагогічних працівників і науковців обох закладів.
Academy HUSPOL (м. Куновіце, Чеська Республіка) як динамічний приватний заклад вищої освіти спеціалізується на практики-орієнтованих програмах у сферах менеджменту та права. Заклад має престижну американську акредитацію ААНЕА (American Association for Higher Education and Accreditation) та є потужним дослідницьким центром із своїми власними традиціями.
У межах співпраці передбачено розвиток академічної мобільності, реалізацію спільних наукових досліджень, участь у міжнародних освітніх і наукових проєктах, конференціях і стажуваннях.
Міжнародне співробітництво залишається важливою складовою розвитку Академії та її інтеграції у світовий академічний простір.